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        美國(guó)伊利諾伊理工學(xué)院
        
    
        2013年02月21日來(lái)源：中教國(guó)際美國(guó)作者： 萬(wàn)佳留學(xué)
        
    
        
        
      	
        
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        　　伊利諾伊理工學(xué)院（Illinois Institute of Technology-Chicago）全美大學(xué)排名105名
        　　建校時(shí)間：1890年
        　　院校性質(zhì)：私立
        　　本科在校學(xué)生：2216人
        　　語(yǔ)言要求：1.托福550分或新托福80分  2. SAT2：1318分或ACT2：1040分 
        　　入學(xué)申請(qǐng)費(fèi)：30美金
        　　TOEFL成績(jī)能否代替SAT或ACT：不可以
        　　主要申請(qǐng)專(zhuān)業(yè)（參考）：工程、科學(xué)、建筑、設(shè)計(jì)、心理學(xué)、公共管理、通信技術(shù)、商業(yè)等
        　　國(guó)際學(xué)生學(xué)費(fèi)：24113美金
        　　國(guó)際學(xué)生食宿費(fèi)：8049美金
        　　申請(qǐng)截止時(shí)間：5月15日
        　　師生人數(shù)比例：13：1
        　　所在州：伊利諾伊州

        　　伊利諾伊斯理工大學(xué)Illinois Institute of Technology（簡(jiǎn)稱(chēng)IIT）作為一所私立的天主教大學(xué)在全美國(guó)排名前100名，該學(xué)校的培訓(xùn)項(xiàng)目更是名列前茅。伊利諾伊斯理工大學(xué)是一所具有博士授予權(quán)的私立大學(xué)，排名美國(guó)大學(xué)前100名。它建立于1890年，提供工程，科學(xué)，建筑，設(shè)計(jì)，以及心理學(xué)，公共管理，通信技術(shù)，商業(yè)，以及法學(xué)等綜合學(xué)科。伊利諾伊斯理工大學(xué)也是獨(dú)立技術(shù)大學(xué)聯(lián)盟享有崇高聲望的成員之一。學(xué)校五大特點(diǎn)如下：

        　　在商業(yè)、研究和學(xué)術(shù)領(lǐng)域具有享譽(yù)世界的聲望磁介質(zhì)錄音的發(fā)明和發(fā)展，蜂窩通信的無(wú)限技術(shù)運(yùn)用，Pop Tarts臭氧層空洞的確認(rèn)，為NASA設(shè)計(jì)的John Madden；John Hancock中心，芝加哥O′Hare機(jī)場(chǎng)聯(lián)合航空公司侯機(jī)樓，Lake Point大廈，新Solder Hold球場(chǎng)等設(shè)計(jì)。

         
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